2024-03-28T15:35:08Z
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/oai
oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00019878
2023-01-16T04:08:59Z
320:606:607
Study on atomic-scale plasma process based on substrate-temperature control by frequency-domain low-coherence interferometry
周波数領域型低コヒーレンス干渉を用いた基板温度制御による原子スケールでのプラズマ加工プロセスに関する研究
TSUTSUMI, Takayoshi
堤, 隆嘉
open access
2015-03-25
eng
doctoral thesis
http://hdl.handle.net/2237/22439
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/records/19878
甲第11042号
博士(工学)
2015-03-25
13901
名古屋大学
Nagoya University
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/19878/files/k11042_abstract.pdf
application/pdf
259.3 kB
2018-02-21
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/19878/files/k11042_thesis.pdf
application/pdf
3.8 MB
2018-02-21
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/19878/files/k11042_review.pdf
application/pdf
131.8 kB
2018-02-21