2024-03-28T08:44:35Z
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/oai
oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00027774
2023-01-16T04:19:49Z
320:606:607
シリコン窒化膜を用いた高性能不揮発性メモリに向けた第一原理計算による設計指針の提案
Design guidelines based on first principle calculations for high performance nonvolatile memories using silicon nitride film
山口, 慶太
open access
2019-03-25
jpn
doctoral thesis
http://hdl.handle.net/2237/00029973
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/records/27774
甲第12798号
博士(工学)
2019-03-25
13901
名古屋大学
Nagoya University
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27774/files/k12798_abstract.pdf
application/pdf
318.0 kB
2019-06-10
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27774/files/k12798_review.pdf
application/pdf
177.5 kB
2019-06-10
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27774/files/k12798_thesis.pdf
application/pdf
4.6 MB
2019-06-10