2024-03-28T15:32:29Z
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/oai
oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00028562
2023-01-16T04:21:29Z
320:606:607
窒化物半導体パワーデバイスの高性能化とプラズマによる低温成膜技術に関する研究
Study on Performance Enhancement of GaN Power Devices and the Low Temperature Plasma Process Technologies
磯部, 康裕
metadata only access
2019-09-27
jpn
doctoral thesis
http://hdl.handle.net/2237/00030753
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/records/28562
甲第12870号
博士(工学)
2019-09-27
13901
名古屋大学
Nagoya University
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/28562/files/k12870_abstract.pdf
application/pdf
241.1 kB
2019-10-31
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/28562/files/k12870_review.pdf
application/pdf
124.2 kB
2019-10-31
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/28562/files/K12870_summary.pdf
application/pdf
386.3 kB
2019-10-31