2024-03-28T11:11:29Z
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/oai
oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00027744
2023-01-16T04:31:19Z
320:606:607
Study on process engineering of low-k inter-layer-dielectric film for high-speed logic devices
ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセスに関する研究
宮島, 秀史
90234
名古屋大学
Nagoya University
博士(工学)
doctoral thesis
2019-03-25
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甲第12768号
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27744/files/k12768_abstract.pdf
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27744/files/k12768_review.pdf
https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/27744/files/k12768_thesis.pdf
jpn