{"_buckets": {"deposit": "6c8a2006-f22d-4e80-864f-195aa8ff7170"}, "_deposit": {"id": "11054", "owners": [], "pid": {"revision_id": 0, "type": "depid", "value": "11054"}, "status": "published"}, "_oai": {"id": "oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00011054", "sets": ["1093"]}, "author_link": ["33521", "33522", "33523", "33524"], "item_1618209983323": {"attribute_name": "助成情報", "attribute_value_mlt": [{"subitem_award_numbers": {"subitem_award_number": "60460120", "subitem_award_uri": "https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-60460120"}, "subitem_award_titles": [{"subitem_award_title": "プラズマプロセシング用SiH⊂のラジカル非発光種に関する研究", "subitem_award_title_language": "ja"}], "subitem_funder_identifiers": {"subitem_funder_identifier": "https://doi.org/10.13039/501100001691", "subitem_funder_identifier_type": "Crossref Funder"}, "subitem_funder_names": [{"subitem_funder_name": "日本学術振興会", "subitem_funder_name_language": "ja"}]}]}, "item_19_biblio_info_6": {"attribute_name": "書誌情報", "attribute_value_mlt": [{"bibliographicIssueDates": {"bibliographicIssueDate": "1987-03", "bibliographicIssueDateType": "Issued"}}]}, "item_19_description_4": {"attribute_name": "抄録", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "Si【H_4】はアモルファスシリコン膜作製に用いられる重要な分子であるが、その電子衝突過程の研究は十分行われていない。本研究の目的は、各種の分光計測法を用いて、Si【H_4】への電子衝突によって生じるラジカル発光種の発光断面積、カスケ-ドを除去した生成断面積、寿命を測定し、更にその結果を利用して、SiHラジカル非発光種の生成断面積を決定することである。本研究は60年度から61年度にかけて行われ、次の成果を得た。 1.ビ-ム法と光子計数法を用いて、Si【H_4】への電子衝突によって生じるラジカル発光種(Si【H^*】,【Si^*】,【H^*】)の発光断面積を0-100evの電子エネルギ-領域で決定した。この研究によって、He線を基準として用い、絶対量の測定をせずに、ラジカル種の発光断面積を決定する方法を確立した。 2.遅延一致法を用いて、【Si^*】及びSi【H^*】ラジカル発光種からの遷移の発光減衰測定を行い、発光種の寿命、カスケ-ドの寄与の割合を求めた。またこの結果と1の結果を組合せて、【Si^*】(4S,4P,3d,【3P^3】)準位,Si【H^*】(【A^2】△)準位の生成断面積(10ueV)を決定した。この生成断面積は本研究で初めて測定されたものであり、発光断面積と共にプラズマの物性解明を行う際の有用なデ-タである。 3.色素レ-ザを用いたレ-ザ誘起蛍光法(LIF法)を利用して、SiH(【A^2】△)に属する個々の振動回転準位の寿命を求めた。 4.LIF法及び時間分解分光法を用い、更に1〜3の結果を利用して、SiHラジカル非発光種(【X^2】Π)の電子衝突生成断面積を決定する方法を考え、予備測定を行った。この測定は現在も続行中であるが、今後SIN比の改善レ-ザ出力の増加を計ることによって、最終的な結果を得ることができると思われる。", "subitem_description_language": "ja", "subitem_description_type": "Abstract"}]}, "item_19_description_5": {"attribute_name": "内容記述", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "科学研究費補助金 研究種目:一般研究(B) 課題番号:17520427 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1985-1986年度", "subitem_description_language": "ja", "subitem_description_type": "Other"}]}, "item_19_identifier_60": {"attribute_name": "URI", "attribute_value_mlt": [{"subitem_identifier_type": "HDL", "subitem_identifier_uri": "http://hdl.handle.net/2237/12922"}]}, "item_19_relation_40": {"attribute_name": "シリーズ", "attribute_value_mlt": [{"subitem_relation_name": [{"subitem_relation_name_text": "科学研究費補助金;一般研究(B);60460120"}]}]}, "item_19_select_15": {"attribute_name": "著者版フラグ", "attribute_value_mlt": [{"subitem_select_item": "publisher"}]}, "item_19_text_14": {"attribute_name": "フォーマット", "attribute_value_mlt": [{"subitem_text_value": "application/pdf"}]}, "item_access_right": {"attribute_name": "アクセス権", "attribute_value_mlt": [{"subitem_access_right": "open access", "subitem_access_right_uri": "http://purl.org/coar/access_right/c_abf2"}]}, "item_creator": {"attribute_name": "著者", "attribute_type": "creator", "attribute_value_mlt": [{"creatorNames": [{"creatorName": "後藤, 俊夫", "creatorNameLang": "ja"}], "nameIdentifiers": [{"nameIdentifier": "33521", "nameIdentifierScheme": "WEKO"}]}, {"creatorNames": [{"creatorName": "稲葉, 成基", "creatorNameLang": "ja"}], "nameIdentifiers": [{"nameIdentifier": "33522", "nameIdentifierScheme": "WEKO"}]}, {"creatorNames": [{"creatorName": "羽根, 一博", "creatorNameLang": "ja"}], "nameIdentifiers": [{"nameIdentifier": "33523", "nameIdentifierScheme": "WEKO"}]}, {"creatorNames": [{"creatorName": "河野, 明広", "creatorNameLang": "ja"}], "nameIdentifiers": [{"nameIdentifier": "33524", "nameIdentifierScheme": "WEKO"}]}]}, "item_files": {"attribute_name": "ファイル情報", "attribute_type": "file", "attribute_value_mlt": [{"accessrole": "open_date", "date": [{"dateType": "Available", "dateValue": "2018-02-20"}], "displaytype": "detail", "download_preview_message": "", "file_order": 0, "filename": "60460120.pdf", "filesize": [{"value": "1.5 MB"}], "format": "application/pdf", "future_date_message": "", "is_thumbnail": false, "licensetype": "license_note", "mimetype": "application/pdf", "size": 1500000.0, "url": {"label": "60460120.pdf", "objectType": "fulltext", "url": "https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/11054/files/60460120.pdf"}, "version_id": "fbd62c3b-ae8b-4213-a9cf-63de65b61d8c"}]}, "item_keyword": {"attribute_name": "キーワード", "attribute_value_mlt": [{"subitem_subject": "LIF法", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "電子衝突", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "ラジカル非発光種", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Lifetime", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Electron Collision", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Non-Emissive Radical", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Plasma Processing", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "生成断面積", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "寿命", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Emission Cross Section", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Si【H_4】", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "プラズマプロセシング", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "発光断面積", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "\u003cSiH_4\u003e", "subitem_subject_scheme": "Other"}, {"subitem_subject": "Level Excitation Cross Section", "subitem_subject_scheme": "Other"}]}, "item_language": {"attribute_name": "言語", "attribute_value_mlt": [{"subitem_language": "jpn"}]}, "item_resource_type": {"attribute_name": "資源タイプ", "attribute_value_mlt": [{"resourcetype": "research report", "resourceuri": "http://purl.org/coar/resource_type/c_18ws"}]}, "item_title": "プラズマプロセシング用SiH4のラジカル非発光種に関する研究", "item_titles": {"attribute_name": "タイトル", "attribute_value_mlt": [{"subitem_title": "プラズマプロセシング用SiH4のラジカル非発光種に関する研究", "subitem_title_language": "ja"}]}, "item_type_id": "19", "owner": "1", "path": ["1093"], "permalink_uri": "http://hdl.handle.net/2237/12922", "pubdate": {"attribute_name": "PubDate", "attribute_value": "2010-03-12"}, "publish_date": "2010-03-12", "publish_status": "0", "recid": "11054", "relation": {}, "relation_version_is_last": true, "title": ["プラズマプロセシング用SiH4のラジカル非発光種に関する研究"], "weko_shared_id": -1}