WEKO3
アイテム / Study on plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition for future gallium nitride devices / k10602_abstract
k10602_abstract
ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2014-06-13 | |||||
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ファイル名 | k10602_abstract.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/18024/files/k10602_abstract.pdf | |||||
ラベル | k10602_abstract.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | abstract | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 320.3 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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