WEKO3
アイテム / Studies on control of active species and design of gas molecules for etching of dielectric films in fluorocarbon and related-gas plasmas / k11041_abstract
k11041_abstract
| ファイル | ライセンス |
|---|---|
 k11041_abstract.pdf (303.8 kB)
sha256
0a970d04aa8561ae76935102d33884b5ff319b4e9d5ff0d8e1e6cde6ab60bd32
|
| 公開日 | 2015-06-11 | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| ファイル名 | k11041_abstract.pdf | |||||
| 本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/19877/files/k11041_abstract.pdf | |||||
| ラベル | k11041_abstract.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | abstract | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 303.8 kB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
|---|