WEKO3
アイテム / NANDフラッシュメモリの電荷蓄積層として用いられるシリコン窒化膜の成膜過程、及び電子物性に関する理論的研究 / k15408_thesis
k15408_thesis
| ファイル | ライセンス |
|---|---|
k15408_thesis.pdf (5.1 MB)
sha256
d5a72e37f0b33896d2fabbeb01ded308a68ab715298a09f4344a9a1a8473dad1
|
| 公開日 | 2025-06-26 | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| ファイル名 | k15408_thesis.pdf | |||||
| 本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/2012622/files/k15408_thesis.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 4.9 MB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/非表示 |
|---|