@article{oai:nagoya.repo.nii.ac.jp:00021334,
 author = {大島, 大輝 and 谷本, 昌大 and 加藤, 剛志 and 岩田, 聡 and 綱島, 滋 and OSHIMA, Daiki and TANIMOTO, Masahiro and KATO, Takeshi and IWATA, Satoshi and TSUNASHIMA, Shigeru},
 issue = {214},
 journal = {電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料},
 month = {Sep},
 note = {我々はこれまでに,Ll_2-CrPt_3規則合金膜に30 keVのKr^+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できること,およびCrPt3を用いて高密度イオン照射型ビットパターン膜が作製できることを示してきた.本報告では,これらをまとめるとともに,Ll_2-CrPt_3の最大の課題である生成温度の高さ(850℃)を解決するために,比較的低温で作製できるMn系規則合金について検討した結果を述べる.これらの合金膜にイオン照射したところ,CrPt_3と同様,低ドーズ量での非磁性化を確認し, Mn系材料においても高密度なパターンが作製できるものと考えられる., We have reported that low dose ion irradiation of 30 keV Kr^+ alters magnetic properties of L1_2-CrPt_3 ordered alloy films and that high-density ion irradiated bit patterned film is fabricated by using the CrPt3. In this report, we summarize these results and discuss Mn based ordered alloys as alternative materials since the Mn based alloys are synthesized at relatively low temperatures compared to L1_2-CrPt_3 (850 ℃). We confirmed that the ion irradiation is effective to control the magnetic properties of the Mn based alloys. This suggests the possibility of the high-density bit patterned films using the Mn based alloys.},
 pages = {5--9},
 title = {規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製},
 volume = {112},
 year = {2012}
}