WEKO3
アイテム / Ge(100)表面の極薄TiO_xキャッピングによるHfO_2原子層堆積/熱処理時の界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術) / 110008800854
110008800854
ファイル | ライセンス |
---|---|
110008800854.pdf (674.1 kB) sha256 591d74aa0bfafbbfb478831019bbcab73b5426044adbcb4cb6641c927f4b1133 |
公開日 | 2016-02-24 | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
ファイル名 | 110008800854.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/21447/files/110008800854.pdf | |||||
ラベル | 110008800854.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 674.1 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
---|