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アイテム / TaO_x層挿入によるHfO_2/Ge界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術) / 110009588301
110009588301
ファイル | ライセンス |
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110009588301.pdf (601.0 kB) sha256 d07c8f9e7575350af59b03797b76b1fd9fe95aaf49a7cdb74df4332d644cefce |
公開日 | 2016-02-24 | |||||
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ファイル名 | 110009588301.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/21459/files/110009588301.pdf | |||||
ラベル | 110009588301.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 601.0 kB |
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