WEKO3
アイテム / Absolute density of precursor SiH3 radicals and H atoms in H2-diluted SiH4 gas plasma for deposition of microcrystalline silicon films / 1_2E4974821
1_2E4974821
ファイル | ライセンス |
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1_2E4974821.pdf (680.2 kB) sha256 0a51c29bf20add8f5a2992335e1803e50da76a5cb89fd9f722989ff06ac178c3 |
公開日 | 2017-04-17 | |||||
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ファイル名 | 1_2E4974821.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/23830/files/1_2E4974821.pdf | |||||
ラベル | 1_2E4974821.pdf ファイル公開:2018/01/23 | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 680.2 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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