WEKO3
アイテム / Atomic layer etching of SiO2 by alternating an O2 plasma with fluorocarbon film deposition / 1_E4971171
1_E4971171
ファイル | ライセンス |
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1_E4971171.pdf (905.5 kB) sha256 1b6a8a643d435d32ae63f45e331da920d46335de850394133311d26e33c0f2f3 |
公開日 | 2017-04-21 | |||||
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ファイル名 | 1_E4971171.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/23915/files/1_E4971171.pdf | |||||
ラベル | 1_E4971171.pdf ファイル公開:2018/01/01 | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 905.5 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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