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アイテム / Praseodymium silicate formed by postdeposition high-temperature annealing / ApplPhysLett_85_5322
ApplPhysLett_85_5322
ファイル | ライセンス |
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ApplPhysLett_85_5322.pdf (151.1 kB) sha256 aafc66a36854d18db380e19084118f6adc59f8b92f70dc1fdb669920551a98b6 |
公開日 | 2006-10-23 | |||||
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ファイル名 | ApplPhysLett_85_5322.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5406/files/ApplPhysLett_85_5322.pdf | |||||
ラベル | ApplPhysLett_85_5322.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 151.1 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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