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アイテム / Surface production of CF, CF_2 , and C_2 radicals in high-density CF_4/H_2 plasmas / JApplPhys_88_5585
JApplPhys_88_5585
ファイル | ライセンス |
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JApplPhys_88_5585.pdf (123.2 kB) sha256 b703d707693fdd788eb48a54ba5f8cbcafc66942b073bbb60484209270d2ed43 |
公開日 | 2006-10-24 | |||||
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ファイル名 | JApplPhys_88_5585.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5431/files/JApplPhys_88_5585.pdf | |||||
ラベル | JApplPhys_88_5585.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 123.2 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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