WEKO3
アイテム / Behavior of atomic radicals and their effects on organic low dielectric constant film etching in high density N_2/H_2 and N_2/NH_3 plasmas / JApplPhys_91_2615
JApplPhys_91_2615
| ファイル | ライセンス |
|---|---|
 JApplPhys_91_2615.pdf (426.8 kB)
sha256
1f9bf2ff0d6df7d14833f7b41f11d4faca6e760529154d959ad754ad1c7619fa
|
| 公開日 | 2006-10-24 | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| ファイル名 | JApplPhys_91_2615.pdf | |||||
| 本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5437/files/JApplPhys_91_2615.pdf | |||||
| ラベル | JApplPhys_91_2615.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 426.8 kB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
|---|