WEKO3
アイテム / Etching organic low dielectric film in ultrahigh frequency plasma using N_2/H_2 and N_2/NH_3 gases / JApplPhys_94_1362
JApplPhys_94_1362
ファイル | ライセンス |
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JApplPhys_94_1362.pdf (283.7 kB) sha256 b64d7239d5299627be9b13162fa30b821f46a2ceb2d99e1413b13d1a2f0f3164 |
公開日 | 2006-10-24 | |||||
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ファイル名 | JApplPhys_94_1362.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5443/files/JApplPhys_94_1362.pdf | |||||
ラベル | JApplPhys_94_1362.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 283.7 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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