WEKO3
アイテム / SiO_x/TiO_2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術) / 110009779104
110009779104
ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2016-02-24 | |||||
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ファイル名 | 110009779104.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/21465/files/110009779104.pdf | |||||
ラベル | 110009779104.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 756.3 kB |
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