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アイテム / SiO_x/TiO_2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術) / 110009779104
110009779104
| ファイル | ライセンス |
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110009779104.pdf (756.3 kB)
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| 公開日 | 2018-02-21 | |||||
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| ファイル名 | 110009779104.pdf | |||||
| 本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/21465/files/110009779104.pdf | |||||
| ラベル | 110009779104.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 756.3 kB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/非表示 |
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