WEKO3
アイテム / Effects of H, OH, and CH_3 radicals on diamond film formation in parallel-plate radio frequency plasma reactor / JApplPhys_82_4055
JApplPhys_82_4055
ファイル | ライセンス |
---|---|
JApplPhys_82_4055.pdf (334.4 kB) sha256 69976492b92a5491aeb23f1bd84402f81fb9a1729165819b7cd72e1da2b18730 |
公開日 | 2006-10-23 | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
ファイル名 | JApplPhys_82_4055.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5421/files/JApplPhys_82_4055.pdf | |||||
ラベル | JApplPhys_82_4055.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 334.4 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
---|