WEKO3
アイテム / Surface reaction of CF_2 radicals for fluorocarbon film formation in SiO_2/Si selective etching process / JVA000233
JVA000233
ファイル | ライセンス |
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JVA000233.pdf (121.0 kB) sha256 7044b076e2462285d04eefedffc01df8f0e4de0df1df4f75a646212bbdd6be23 |
公開日 | 2006-10-30 | |||||
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ファイル名 | JVA000233.pdf | |||||
本文URL | https://nagoya.repo.nii.ac.jp/record/5495/files/JVA000233.pdf | |||||
ラベル | JVA000233.pdf | |||||
オブジェクトタイプ | fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 121.0 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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