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  1. B200 工学部/工学研究科
  2. B200a 雑誌掲載論文
  3. 学術雑誌

結晶異方性エッチング解析システムMICROCADの開発(<小特集>マイクロマシン関連技術)

http://hdl.handle.net/2237/12659
http://hdl.handle.net/2237/12659
c2bb238d-fca8-4a8f-ac2b-ac8a8f7fd696
名前 / ファイル ライセンス アクション
j82-c2_3_84.pdf j82-c2_3_84.pdf (519.7 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2010-02-09
タイトル
タイトル 結晶異方性エッチング解析システムMICROCADの開発(<小特集>マイクロマシン関連技術)
言語 ja
その他のタイトル
その他のタイトル Development of an Orientation-Dependent Anisotropic Etching Simulation System MICROCAD
言語 en
著者 佐藤, 一雄

× 佐藤, 一雄

WEKO 32494

ja 佐藤, 一雄

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浅海, 和雄

× 浅海, 和雄

WEKO 32495

ja 浅海, 和雄

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小林, 元

× 小林, 元

WEKO 32496

ja 小林, 元

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入江, 康郎

× 入江, 康郎

WEKO 32497

ja 入江, 康郎

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式田, 光宏

× 式田, 光宏

WEKO 32498

ja 式田, 光宏

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
権利
言語 en
権利情報 Copyright 1999 IEICE
キーワード
主題Scheme Other
主題 結晶異方性エッチング
キーワード
主題Scheme Other
主題 エッチング速度
キーワード
主題Scheme Other
主題 データベース
キーワード
主題Scheme Other
主題 シミュレーション
キーワード
主題Scheme Other
主題 CAD
抄録
内容記述 複雑な3 次元構造をもつマイクロマシンデバイスの加工プロセス設計を支援するツールとして,結晶異方性エッチング解析システムMICROCAD を開発した.このシステムは,被加工材であるシリコン単結晶の全方位のエッチング速度をデータベースとして備えることにより,任意の結晶方位をもつウェーハ,任意のマスクパターンに対して,3 次元エッチングプロフィルの時間的変化を解析する機能をもつ.全方位に対するエッチング速度の測定方法,解析システムの構成,3 次元エッチングプロフィルの計算方法について述べた.本システムの適用例として,補償マスクパターンの設計,ウェーハを貫通してなお進行するエッチング形状の解析,多段階エッチングプロセスの工程設計の例を示し,このシステムの工程設計における有効性を論じた.
言語 ja
内容記述タイプ Abstract
出版者
言語 ja
出版者 電子情報通信学会
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプresource http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
関連情報
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ URI
関連識別子 http://www.ieice.org/jpn/trans_online/index.html
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0915-1907
書誌情報 ja : 電子情報通信学会論文誌

巻 J82-C-II, 号 3, p. 84-91, 発行日 1999-03-20
フォーマット
application/pdf
著者版フラグ
値 publisher
URI
識別子 http://hdl.handle.net/2237/12659
識別子タイプ HDL
URI
識別子 http://www.ieice.org/jpn/trans_online/index.html
識別子タイプ URI
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Ver.1 2021-03-01 19:18:57.206267
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