WEKO3
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縦型GaNパワーデバイス実現に向けたICP-RIEを用いたトレンチ形成プロセスに関する研究
http://hdl.handle.net/2237/0002000421
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名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | itemtype_ver1(1) | |||||||
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公開日 | 2021-08-12 | |||||||
タイトル | ||||||||
タイトル | 縦型GaNパワーデバイス実現に向けたICP-RIEを用いたトレンチ形成プロセスに関する研究 | |||||||
言語 | ja | |||||||
その他のタイトル | ||||||||
その他のタイトル | Study on trench formation by inductively coupled plasma reactive ion etching for realization of vertical GaN power devices | |||||||
言語 | en | |||||||
著者 |
山田, 真嗣
× 山田, 真嗣
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アクセス権 | ||||||||
アクセス権 | metadata only access | |||||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||||
言語 | ||||||||
言語 | jpn | |||||||
資源タイプ | ||||||||
資源タイプresource | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
タイプ | doctoral thesis | |||||||
書誌情報 |
発行日 2021-03-25 |
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学位名 | ||||||||
言語 | ja | |||||||
学位名 | 博士(工学) | |||||||
学位授与機関 | ||||||||
学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||
学位授与機関識別子 | 13901 | |||||||
言語 | ja | |||||||
学位授与機関名 | 名古屋大学 | |||||||
言語 | en | |||||||
学位授与機関名 | NAGOYA University | |||||||
学位授与年度 | ||||||||
学位授与年度 | 2020 | |||||||
学位授与年月日 | ||||||||
学位授与年月日 | 2021-03-25 | |||||||
学位授与番号 | ||||||||
学位授与番号 | 甲第13610号 |