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アイテム
半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によるフルオロカーボンガスプラズマの特性及び酸化膜のエッチングメカニズムに関する研究
http://hdl.handle.net/2237/25066
http://hdl.handle.net/2237/25066f4e2b97a-099f-42c0-8c64-7dfc92b5a0f1
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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k11602_abstract.pdf (262.7 kB)
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k11602_thesis.pdf (6.1 MB)
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k11602_review.pdf (1.0 MB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2016-11-21 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によるフルオロカーボンガスプラズマの特性及び酸化膜のエッチングメカニズムに関する研究 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma with Superposition of Radio Frequencies and Direct Current and Etching Mechanisms of SiO2 in Semiconductor Etching Equipment | |||||
| 言語 | en | |||||
| 著者 |
大矢, 欣伸
× 大矢, 欣伸 |
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| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
| タイプ | doctoral thesis | |||||
| 書誌情報 |
発行日 2016-09-27 |
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| 学位名 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
| 学位授与機関識別子 | 13901 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位授与機関名 | 名古屋大学 | |||||
| 言語 | en | |||||
| 学位授与機関名 | Nagoya University | |||||
| 学位授与年度 | ||||||
| 学位授与年度 | 2016 | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2016-09-27 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 甲第11602号 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 値 | ETD | |||||
| URI | ||||||
| 識別子 | http://hdl.handle.net/2237/25066 | |||||
| 識別子タイプ | HDL | |||||
