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  1. B200 工学部/工学研究科
  2. B200d 学位論文
  3. 博士論文(工博・論工博)

半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によるフルオロカーボンガスプラズマの特性及び酸化膜のエッチングメカニズムに関する研究

http://hdl.handle.net/2237/25066
http://hdl.handle.net/2237/25066
f4e2b97a-099f-42c0-8c64-7dfc92b5a0f1
名前 / ファイル ライセンス アクション
k11602_abstract.pdf k11602_abstract.pdf (262.7 kB)
k11602_thesis.pdf k11602_thesis.pdf (6.1 MB)
k11602_review.pdf k11602_review.pdf (1.0 MB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2016-11-21
タイトル
タイトル 半導体エッチング装置における高周波と直流の重畳印加によるフルオロカーボンガスプラズマの特性及び酸化膜のエッチングメカニズムに関する研究
言語 ja
その他のタイトル
その他のタイトル Study on Characteristics of Fluorocarbon Gas Plasma with Superposition of Radio Frequencies and Direct Current and Etching Mechanisms of SiO2 in Semiconductor Etching Equipment
言語 en
著者 大矢, 欣伸

× 大矢, 欣伸

WEKO 67291

ja 大矢, 欣伸

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
タイプ doctoral thesis
書誌情報
発行日 2016-09-27
学位名
言語 ja
学位名 博士(工学)
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 13901
言語 ja
学位授与機関名 名古屋大学
言語 en
学位授与機関名 Nagoya University
学位授与年度
学位授与年度 2016
学位授与年月日
学位授与年月日 2016-09-27
学位授与番号
学位授与番号 甲第11602号
著者版フラグ
値 ETD
URI
識別子 http://hdl.handle.net/2237/25066
識別子タイプ HDL
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Ver.1 2021-03-01 14:48:04.032869
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