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アイテム
先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロカーボンプラズマを用いた難エッチング材料のドライエッチングに関する研究
http://hdl.handle.net/2237/00032761
http://hdl.handle.net/2237/0003276124ec3b2d-38cd-427a-9f86-1c9f80944ccf
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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k13305_abstract (266.0 kB)
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k13305_review (123.4 kB)
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k13305_thesis (6.0 MB)
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2020-10-19 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 先端LSI製造プロセスにおける塩素含有プラズマ及びフルオロカーボンプラズマを用いた難エッチング材料のドライエッチングに関する研究 | |||||
言語 | ja | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | Study on dry etching of difficult etching materials using chlorine-containing plasma and fluorocarbon plasma for advanced LSI fabrication process | |||||
言語 | en | |||||
著者 |
佐々木, 俊行
× 佐々木, 俊行 |
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アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
資源タイプ | doctoral thesis | |||||
書誌情報 |
発行日 2020-09-28 |
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学位名 | ||||||
言語 | ja | |||||
学位名 | 博士(工学) | |||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
学位授与機関識別子 | 13901 | |||||
言語 | ja | |||||
学位授与機関名 | 名古屋大学 | |||||
言語 | en | |||||
学位授与機関名 | Nagoya University | |||||
学位授与年度 | ||||||
値 | 2020 | |||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 2020-09-28 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 甲第13305号 | |||||
著者版フラグ | ||||||
値 | ETD |