WEKO3
アイテム
二酸化シリコン薄膜の低温プラズマCVDにおける分光学的プロセス診断に関する研究
http://hdl.handle.net/2237/10837
http://hdl.handle.net/2237/1083796b057a7-cb34-4e3a-87eb-1b7826eaee4f
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2009-01-21 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 二酸化シリコン薄膜の低温プラズマCVDにおける分光学的プロセス診断に関する研究 | |||||
言語 | ja | |||||
著者 |
井上, 泰志
× 井上, 泰志× Inoue, Yasushi |
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アクセス権 | ||||||
アクセス権 | open access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
内容記述 | ||||||
内容記述 | 名古屋大学博士学位論文 学位の種類:博士(工学)(論文) 学位授与年月日:平成12年2月29日 | |||||
言語 | ja | |||||
内容記述タイプ | Other | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
タイプ | doctoral thesis | |||||
書誌情報 |
発行日 2000-02-29 |
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学位名 | ||||||
言語 | ja | |||||
学位名 | 博士(工学) | |||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
学位授与機関識別子 | 13901 | |||||
言語 | ja | |||||
学位授与機関名 | 名古屋大学 | |||||
言語 | en | |||||
学位授与機関名 | Nagoya University | |||||
学位授与年度 | ||||||
学位授与年度 | 1999 | |||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 2000-02-29 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 乙第5707号 | |||||
フォーマット | ||||||
application/pdf | ||||||
著者版フラグ | ||||||
値 | publisher | |||||
URI | ||||||
識別子 | http://hdl.handle.net/2237/10837 | |||||
識別子タイプ | HDL |