WEKO3
アイテム
アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原子層プロセスに関する研究
http://hdl.handle.net/2237/00031865
http://hdl.handle.net/2237/0003186592c167b6-f0aa-4dca-a1f7-c0fdfc36eb56
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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k13116_abstract (285.5 kB)
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k13116_review (112.6 kB)
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k13116_thesis (5.6 MB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2020-04-02 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | アルミニウム化合物を用いた半導体デバイス製造における原子層プロセスに関する研究 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | study on atomic layer process of Aluminum compounds for semiconductor device fabrication | |||||
| 言語 | en | |||||
| 著者 |
福水, 裕之
× 福水, 裕之 |
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| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | open access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||
| 書誌情報 |
発行日 2020-03-25 |
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| 学位名 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||
| 学位授与機関識別子 | 13901 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 学位授与機関名 | 名古屋大学 | |||||
| 言語 | en | |||||
| 学位授与機関名 | Nagoya University | |||||
| 学位授与年度 | ||||||
| 値 | 2019 | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2020-03-25 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 甲第13116号 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 値 | ETD | |||||
