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  1. B200 工学部/工学研究科
  2. B200d 学位論文
  3. 博士論文(工博・論工博)

ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセスに関する研究

http://hdl.handle.net/2237/00029943
http://hdl.handle.net/2237/00029943
e86a5b2f-83a6-460d-a6bd-eab676bd03cc
名前 / ファイル ライセンス アクション
k12768_abstract.pdf k12768_abstract (349.7 kB)
k12768_review.pdf k12768_review (132.4 kB)
k12768_thesis.pdf k12768_thesis (9.5 MB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2019-04-04
タイトル
タイトル ロジックデバイスにおける低誘電率層間絶縁膜形成プロセスに関する研究
言語 ja
その他のタイトル
その他のタイトル Study on process engineering of low-k inter-layer-dielectric film for high-speed logic devices
言語 en
著者 宮島, 秀史

× 宮島, 秀史

WEKO 90234

ja 宮島, 秀史

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
タイプ doctoral thesis
書誌情報
発行日 2019-03-25
学位名
言語 ja
学位名 博士(工学)
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 13901
言語 ja
学位授与機関名 名古屋大学
言語 en
学位授与機関名 Nagoya University
学位授与年度
学位授与年度 2018
学位授与年月日
学位授与年月日 2019-03-25
学位授与番号
学位授与番号 甲第12768号
著者版フラグ
値 ETD
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Ver.1 2021-03-01 10:19:33.550088
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